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第六百五十七章 时间才是最大的敌人

    “大陆晴风集团创始人?”
    “旗下已有三家上市公司,资产数百亿?内地隐形富豪?”
    “白手起家,竟然才26岁?”
    看到叶风的资料,张中谋怀疑是不是底下的搞错了?
    很快,他就打消了这个念头。
    能摆上他案头的,自然是确定无数次的材料。
    和叶风的资料一起摆上案头的,还有近期中芯的变化。
    “刚刚经历了非典的冲击,中芯就开始量产90nm的工艺的芯片了吗?”
    “中芯竟然从荷兰阿斯麦公司进口了一台最先进的光刻机。还是今年才从香江维多利亚港装船的。”
    “中芯那边有高人啊,居然没有找“光刻机霸主”——东洋的尼康和佳能购买设备,反而找到这家小厂?”
    张中谋不得不佩服中芯高人的眼光独到之处。
    荷兰的光刻机技术不比东洋差,但是名气要小得多。他们正好需要打破东洋的垄断,只要中芯许之与厚利就能突破《瓦森纳协定》的封锁,从而买到最先进的光刻机。
    去年积电代工英特尔最成熟的芯片工艺,就是90nm的。
    中芯这是追到积电的屁股后面了。
    双方的技术代差,只有半代了。
    想到这里。
    张中谋不慌不忙,吩咐助理:“把林苯坚叫来。”
    ……
    不一会,一名50来岁的清瘦男子奉命前来。
    此人正是积电技术副总监林苯坚,1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士,在ibm一干就是22年,专攻高成像技术。
    2000年,林苯坚加入了积电,提出一系列突破性的创新,研发湿法光刻技术。
    这项技术和如今的干法光刻技术方案背道而驰,林苯坚还被圈内人吐槽是“挡在航空母舰面前不自量力的飞鸟”。
    此方案也遭到了如今“光刻机霸主”东洋佳能和尼康的抵制。林苯坚刚刚提出即遭反对,心情自然是郁闷无比,只得暗自研究相关工艺。
    “张总,您找我?”林苯坚进门,就看到张中谋在看资料沉思。
    “苯坚呐,你来了。”张中谋闻言抬头,喜道:“快请坐。”
    待到林苯坚小心地坐下后,张中谋笑道:“苯坚啊,你上次申请的湿法光刻技术项目,我研究后很有兴趣,你能对我再讲讲你的看法吗?”
    “啊……”
    林苯坚闻言又惊又喜,惊的是德高望重的张中谋亲自研究了他的项目方案,喜的是自己终于得到了发挥的机会。
    他整理了一下思路,缓缓道:“传统的干式光刻法,自1959年发明‘平面积成电路’以来,被持续使用了四十年,然而受限于基本光学衍射,在90年代后期,用该方法制造特征尺寸小于65纳米的芯片面临无法逾越的瓶颈。”
    林苯坚坚定地道:“我预见昂贵的干式光刻技术将进入死角,所以建议使用湿式光刻,该方法是一种新的光刻工序,透过液体介质置换透镜和晶圆表面之间的气隙以提高光学解析精度。”
    “这个我知道,你说的湿式光刻,是浸润式光刻,这个概念在80年代曾有人提出过。但这个概念很原始,距离可实现的方法还很远。”张中谋点头道。
    “对,为了优化浸润式光刻系统,我在理论上重新定义并导出了关键性能指标和缩放公式,为极高解析度的三维浸润式光刻光学系统,规范了必须遵行的缩放定律。”
    林苯坚道:“我还在实验室的研究发现,想要完善浸润式光刻,就是要克服液体中微气泡的形成。还必须要开拓在热力学极限下,经由水而衍射的光刻工序。”
    张中谋赫然动容道:“如果你的这个设想全部解决,那么在科学和工程上,就证实了湿式光刻方法可用于最先进的ic制程,可以将ic技术节点从65nm持续降低,打破65nm的技术壁障。”
    “对,这样摩尔定律又可以生效了。至少可以再持续延伸了五代以上。”林苯坚信心满满地道。
    “哈哈,好哇!”
    张中谋大笑,“就是要你的这种底气,你来看看这份资料。”
    他指着中芯突破90nm技术的资料给林苯坚看,“如果技术停滞,后来者就很容易追上来。为了保持我们的技术领先,我决定马上研发湿法光刻技术。由你牵头负责成立技术团队,争取一年内出成果。咱们积电不发威,什么内地小公司都敢追上来了。”
    林苯坚临危受命却大喜,他立正道:“保证完成任务。”
    “不过……”林苯坚又道:“光刻机霸主——东洋佳能和尼康十分抵制我的这个方案,我们找哪家公司一起研发湿法光刻机呢?”
    “那里……”
    张中谋又指了指手中的资料,林苯坚低头看去,“荷兰小厂阿斯麦?”
    “对,相信他们愿意尝试。这是他们打败东洋霸主的机会。”
    张中谋虽然不熟悉这家小厂,但他懂人心。
    他拍拍林苯坚的肩膀,“尽快出发,和这家公司交好,必要的时候可以提供技术支持或资金入股,争取这家公司更多的话语权。”
    张中谋安排好了林苯坚,目光又落到了案头的资料上面。只见资料最上方,叶风的清秀帅气的照片,带着淡淡的笑容。那面容年轻得过份。
    叹了一口气道:“唉,我和张如京都老了,就算我现在能带领积电领先一步,十年二十年后,我还能带得动积电这艘大船吗?时间,才是我最大的敌人啊。”
    他此时还不知道,林苯坚的湿法光刻技术大获成功,不仅革新了集成电路的制程,还使先进半导体芯片的特征尺寸,能持续缩减为57纳米量级,为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献,让积电的制程技术一直领先了15年。
    而且,不但积电完成了技术突破,荷兰阿斯麦也迅速崛起,击垮东洋霸主成为行业巨头,和积电结下了深厚的战友情。
    如果不是叶风的出现,15年后的阿斯麦将在美国的重压下,卡着中芯的脖子,不再给中芯提供7纳米级的先进光刻机,差点将中芯逼入绝境。


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